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    RIGAKU测量仪TXRF 3760

    发布于:2020-07-01 11:09来源:上海兆茗 作者:上海兆茗 点击:

      RIGAKU测量仪TXRF 3760

      TXRF分析可以衡量所有晶圆厂工艺中的污染,包括清洁,光刻,蚀刻,灰化,薄膜等。TXRF 3760可以使用单靶3束X射线系统和液氮测量从Na到U的元素探测器系统。

      TXRF 3760包括Rigaku获得专利的XYθ样品台系统,真空晶圆自动传送系统以及新的用户友好型Windows软件。所有这些都有助于提高吞吐量,更高的精度和精确度以及易于日常操作。

      可选的Sweeping TXRF软件可以绘制晶片表面上的污染物分布图,以识别“热点”,可以以更高的精度自动重新测量??裳〉腪EE-TXRF功能克服了原始TXRF设计历来15 mm的边缘排除问题,从而实现了零边缘排除的测量。

      易于操作和快速分析结果

      接受200毫米或更小的晶圆

      紧凑的设计,占地面积小

      大功率旋转阳极源

    RIGAKU测量仪TXRF 3760

      多种分析元素(Na?U)

      元素敏感性(对于Na,Mg和Al)

      应用于裸硅和非硅衬底

      从缺陷检查工具导入测量坐标以进行后续分析

      产品名称:TXRF 3760

      技术:全反射X射线荧光(TXRF)

      效益:从Na到U的快速元素分析,以测量所有制造工艺中的晶片污染

      技术:带有无液氮检测器的三束TXRF系统

      核心属性:最大200毫米晶圆,XYθ样品台系统,真空晶圆机械手传输系统,ECS / GEM通信软件

      核心选择:扫描TXRF软件可以绘制晶片表面污染物分布图,以识别“热点”。ZEE-TXRF功能可实现零边缘排除的测量

      电脑:内部PC,微软Windows ® OS

      核心尺寸:1000(宽)x 1760(高)x 948(深)毫米

      重量:100公斤(核心装置)

      电源要求:3Ø,200伏交流50/60 Hz,100安

    tag标签:RIGAKU(1)
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